蒸着材料

PVD用タンタル、バリア層スパッタリングの理想的なソリューション

グローバルアドバンストメタル（GAM）は、物理蒸着（PVD）用途に理想的なタンタル材料の垂直統合型生産者です。主に半導体チップ製造のバリア層スパッタリングに使用され、GAMは70年以上にわたり高純度タンタルの主要なサプライヤーです。

金属採鉱から完成品までの垂直統合であるため、GAMは、タンタル材料の品質、トレーサビリティ、コスト、コンフリクトフリー調達を管理し、保証することができます。

GAMは、コンフリクトフリーの取り組みにおいて業界のリーダーであり、西オーストラリア最大の鉱山でタンタル権を通し、タンタル鉱石の多様で信頼性のある、かつ経済的な供給を維持しています。さらに、GAMは、全ての流通経路から戻されるタンタルリサイクルに関する業界の専門知識を有しております。

GAMは、タンタルの高度で多様な形状、PVD用途のための特許取得済みプロセスとISO認証を維持しています。

高純度粉末

GAMは、スパッタリングターゲットの原料として使用される高純度タンタル粉末のリーディングサプライヤーです。　
GAMは、5N純度（99.999％）と、工業上利用可能な最低レベルのニオブ（Nb）にて提供します。

高純度インゴット

GAMは、タンタルを溶解しPVDターゲット用に最適なインゴットにするための複数の電子ビーム（EB）炉を所有しております。直径8、10、12インチのインゴットが利用可能で、6N（99.9999％）の超高純度を達成できます。GAMのEB溶解タンタルインゴットは、カスタマイズされた重量に溶融し、さらにビレット、ロッド、プレート、ディスクなどの一般的な形状に加工できます。

GAMは、PVD用途で一般的に使用される多種多様な分析技術で幅広い経験を有しております。

プレートとターゲット

GAMは、超高純度タンタルインゴットをPVD用途に適した形状に変換する技術を有しております。GAMの業界における70年以上の経験は、超高純度タンタル材料のありとあらゆる展伸工程作業が、PVD用途で要求される高品質を維持することを保証します。